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簡(jiǎn)要描述:KHMP-2DT 雙盤雙控金相磨拋機(jī)采用了大觸摸屏,可使磨拋盤的轉(zhuǎn)速在50-1000r/min之間連續(xù)可調(diào),通過(guò)更換金相砂紙和拋光織物可以完成試樣的磨、拋工序,展現(xiàn)了更廣泛的應(yīng)用性。適用于工廠、大專院校、科研單位的金相試驗(yàn)室,是金相試樣磨拋的好設(shè)備。
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一、KHMP-2DT 雙盤雙控金相磨拋機(jī)用途和特點(diǎn):
在金相試樣制備過(guò)程中,試樣的磨、拋光是的工序,試樣經(jīng)過(guò)磨拋后,可獲得光亮如鏡的表面。KMP-2DT雙盤雙控金相磨拋機(jī)采用了大觸摸屏,可使磨拋盤的轉(zhuǎn)速在50-1000r/min之間連續(xù)可調(diào),通過(guò)更換金相砂紙和拋光織物可以完成試樣的磨、拋工序,展現(xiàn)了更廣泛的應(yīng)用性。
殼體采用整體吸塑,外觀新穎,具有轉(zhuǎn)動(dòng)平穩(wěn)、噪聲小、操作方便、工作效率高等特點(diǎn),并自帶冷卻裝置,可以在磨拋時(shí)對(duì)試樣進(jìn)行冷卻,以防止因試樣過(guò)熱而破壞金相組織。適用于工廠、大專院校、科研單位的金相試驗(yàn)室,是金相試樣磨拋的好設(shè)備。
二、KHMP-2DT 雙盤雙控金相磨拋機(jī)產(chǎn)品優(yōu)勢(shì):
1、殼體采用ABS一體成型,外觀新穎。
2、水龍頭采用全銅鍍鉻工藝,防腐蝕性好。
3、帶自動(dòng)清洗功能,可對(duì)集污槽進(jìn)行自動(dòng)清洗,讓集污槽保持清潔。(選配)
4、直流無(wú)刷電機(jī),轉(zhuǎn)動(dòng)平穩(wěn),噪音低,壽命長(zhǎng)。(選配)
5、連續(xù)調(diào)速加八擋定速,方便快捷滿足各種需求。
6、倒計(jì)時(shí)功能,時(shí)間可設(shè)定,到時(shí)停機(jī)。(選配)
7、磨拋盤可以進(jìn)行順時(shí)針或逆時(shí)針旋轉(zhuǎn),適應(yīng)不同需要。
8、雙盤雙控使用更加靈活節(jié)能,讓制樣效率更加高效。
9、可選配帶膠砂紙和拋光布專用磁性盤和防粘盤,替代標(biāo)配的卡圈。(選配)
三、技術(shù)參數(shù):
技術(shù)參數(shù) | 名稱: | 規(guī)格: |
磨盤直徑 | 標(biāo)配φ203mm(可定制φ230mm、φ250mm) | |
磨盤轉(zhuǎn)速 | 50-1000r/min(無(wú)極調(diào)速) | |
電源 | 電壓:220V 頻率:50HZ | |
電機(jī) | 0.55KW | |
外形尺寸 | 730×765×320mm | |
重量 | 42Kg |
四、裝 箱 單
型號(hào) | 產(chǎn)品名稱 | 單位 | 數(shù)量 | |
KMP-2DT | 金相試樣磨拋機(jī) | 臺(tái) | 1 | |
產(chǎn)品附件 | 單位 | 數(shù)量 | 備注 | |
磨拋盤 | 個(gè) | 2 | 已安裝在設(shè)備上 | |
擋水圈 | 個(gè) | 2 | 已安裝在設(shè)備上 | |
壓圈 | 個(gè) | 2 | 已安裝在設(shè)備上 | |
水砂紙 | 張 | 2 | Φ203mm | |
拋光織物 | 張 | 2 | Φ203mm | |
進(jìn)水管 | 根 | 1 | 6分接口 | |
出水管 | 根 | 1 | Φ32 | |
技術(shù)文件 | 1.產(chǎn)品說(shuō)明書(shū)1份 2.產(chǎn)品合格證1份 |
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